Epolith [**]075型曝光光学系统
Epolith [**]075型曝光光学系统是“国家科技重大专项02专项”的核心研究成果之一，是我国首套具有全部自主知识产权的90nm节点光刻机曝光光学系统。该套系统包括照明系统与投影物镜系统两大组成部分。其工作原理为193nm [**]rF准分子激光首先由照明系统进行整形和匀光后为掩模面提供特定模式照明，经照明后的IC掩模图形经投影物镜以极高分辨率和极低畸变成像到涂胶硅片面上，最终实现IC掩模图形的完美复制。
公司采用面向复杂产品研发的集成化产品开发（IPD）策略及基于产品全生命周期管理的系统工程理念，成功实现了首套国产高端光刻机曝光光学系统的研制与交付。Epolith [**]075型曝光光学系统的研制成功，标志我国超精密光学技术已跻身国际先进行列，并为浸没式光刻机曝光光学系统的研发与产业化奠定了良好的技术与产业化基础。
特性描述
国内首套面向90nm工艺节点、[**]rF激光光源、大数值孔径N[**]0.75、大视场、高速动态补偿、离轴照明、高均匀性照明
规格参数
型号 | Epolith [**]075 |
工作波长 | 193 nm |
数值孔径 | 0.75 |
视场 | 26 mm×10.5 mm |
波前像差（RMS, Z5-Z37） | ≤5.1 nm |
畸变（NCE） | ≤5.7 nm |
Y向照明分布的静态积分沿X轴的分布均匀性 | ≤0.8% |
光瞳椭圆度 | ≤4% |
曝光结果
